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電位滴定法測(cè)定電渡槽液中的Cu2+含量

更新時(shí)間:2014-09-05 點(diǎn)擊次數(shù):2663
 應(yīng)用領(lǐng)域: 電鍍
用戶信息: 甘肅金川科技
關(guān)鍵詞: 905,電位滴定法,電鍍槽液,Cu2+
樣品: 鎳電渡槽液,墨綠色透明液體
設(shè)備和附件:
905 Titrando, 801 Stirrer, 800 Dosino
6.0431.100 Pt Titrode
樣品處理:
c(Na2S2O3) = 0.1mol/L
c(H2SO4) = 2mol/L
輔助溶液: w(KI)=10% plus w(KCNS)=20%
樣品分析:
在滴定杯中倒入50mL 樣品,加入10mL H2SO4 溶液和5mL 輔助溶液,
等一小段時(shí)間后,以Na2S2O3 滴定所得溶液,以Pt Titrode 為指示電
極。*個(gè)等當(dāng)點(diǎn)對(duì)應(yīng)Cu2+含量。
分析結(jié)果:
Sample1:0.4343 g/L , 0.4344 g/L RSD=0.02%
Sample2:0.4299 g/L, 0.4303 g/L RSD=0.07%
Sample3:0.4365 g/L, 0.4371 g/L RSD=0.10%
Sample4:0.4456 g/L, 0.4452 g/L RSD=0.06%
Sample5:0.4359 g/L, 0.4370 g/L, 0.4362 g/L RSD=0.13%
0.5 g/L Cu2+標(biāo)準(zhǔn)溶液:0.4958 g/L
備注: 無
典型譜圖:

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